“Carlos De Moya, primer diseñador dominicano que representará al país en el Epson Digital Couture, antesala al New York Fashion Week”.
“El sueño de todo diseñador latinoamericano es llegar al NYFW, pienso que es un gran paso en mí carrera llegar a una de las principales capitales de la moda de la mano de una marca como Epson”.
Santo Domingo, República Dominicana.- El diseñador dominicano Carlos de Moya realizó un encuentro para compartir parte, de lo que presentará en New York, denominada “Historia textil: mi historia como diseñador”, trata de una colección exclusiva para el NYFW que fue inspirada en los atardeceres de su tierra natal, Mao.
Es primera vez que un diseñador dominicano llega a representar la moda nacional en el Epson Digital Couture 2017, del 06 al 08 de febrero, antesala al evento más importante de la industria de la moda: el New York Fashion Week (NYFW).
Carlos De Moya quien fue elegido por Epson para mostrar sus diseños elaborados con avanzadas soluciones de sublimación, técnica de impresión que consiste en la transferencia de una imagen impresa en papel al textil por medio de calor.
De Moya ofrecerá una representación visual que muestra el impacto que tienen las tecnologías de impresión digital en la industria textil y de la moda.
Este es el tercer año en el que Epson organiza con éxito este evento internacional en la capital de la moda, New York. Y el 2017 se traduce en la primera oportunidad en que el talento dominicano dice presente.
“Para nosotros es un orgullo contar con la participación de un diseñador como Carlos De Moya, ya que no es la primera vez que trabaja con la técnica de sublimación y eso ha hecho que él logre explorar cómo se manifiesta su creatividad con un estilo único e irrepetible; esto hace indudablemente que la visión de los demás artistas crezca”, manifestó Abelicio Quintero, gerente de ventas Epson, para Miami y el Caribe.
La colección de Carlos De Moya será exhibida frente a industrias como Brasil, Colombia, México, Ecuador, entre otras regiones.
